Apakah Maksud TTV, BOW, WARP dan TIR dalam Wafer?

Apabila memeriksa wafer atau substrat silikon semikonduktor yang diperbuat daripada bahan lain, kita sering menemui penunjuk teknikal seperti: TTV, BOW, WARP, dan mungkin TIR, STIR, LTV, antara lain. Apakah parameter yang diwakili oleh ini?

 

TTV — Variasi Ketebalan Keseluruhan
BUSU — Busur
LENGKET — Lengket
TIR — Jumlah Bacaan yang Ditunjukkan
KACAU — Jumlah Bacaan yang Ditunjukkan di Tapak
LTV — Variasi Ketebalan Tempatan

 

1. Variasi Ketebalan Keseluruhan — TTV

da81be48e8b2863e21d68a6b25f09db7Perbezaan antara ketebalan maksimum dan minimum wafer relatif kepada satah rujukan apabila wafer diapit dan bersentuhan rapat. Ia biasanya dinyatakan dalam mikrometer (μm), selalunya diwakili sebagai: ≤15 μm.

 

2. Busur — BUSU

081e298fdd6abf4be6f882cfbb704f12

Sisihan antara jarak minimum dan maksimum dari titik tengah permukaan wafer ke satah rujukan apabila wafer berada dalam keadaan bebas (tidak diapit). Ini termasuk kedua-dua kes cekung (lengkungan negatif) dan cembung (lengkungan positif). Ia biasanya dinyatakan dalam mikrometer (μm), sering diwakili sebagai: ≤40 μm.

 

3. Meleding — Meleding

e3c709bbb4ed2b11345e6a942df24fa4

Sisihan antara jarak minimum dan maksimum dari permukaan wafer ke satah rujukan (biasanya permukaan belakang wafer) apabila wafer berada dalam keadaan bebas (tidak diapit). Ini termasuk kedua-dua kes cekung (lengkungan negatif) dan cembung (lengkungan positif). Ia biasanya dinyatakan dalam mikrometer (μm), sering diwakili sebagai: ≤30 μm.

 

4. Jumlah Bacaan yang Ditunjukkan — TIR

8923bc5c7306657c1df01ff3ccffe6b4

 

Apabila wafer diapit dan bersentuhan rapat, menggunakan satah rujukan yang meminimumkan jumlah pintasan semua titik dalam kawasan kualiti atau kawasan setempat tertentu pada permukaan wafer, TIR ialah sisihan antara jarak maksimum dan minimum dari permukaan wafer ke satah rujukan ini.

 

Diasaskan atas kepakaran mendalam dalam spesifikasi bahan semikonduktor seperti TTV, BOW, WARP dan TIR, XKH menyediakan perkhidmatan pemprosesan wafer tersuai jitu yang disesuaikan dengan piawaian industri yang ketat. Kami membekal dan menyokong pelbagai jenis bahan berprestasi tinggi termasuk nilam, silikon karbida (SiC), wafer silikon, SOI dan kuarza, memastikan kerataan, ketekalan ketebalan dan kualiti permukaan yang luar biasa untuk aplikasi lanjutan dalam optoelektronik, peranti kuasa dan MEMS. Percayakan kami untuk memberikan penyelesaian bahan yang andal dan pemesinan jitu yang memenuhi keperluan reka bentuk anda yang paling mencabar.

 

https://www.xkh-semitech.com/single-crystal-silicon-wafer-si-substrate-type-np-optional-silicon-carbide-wafer-product/

 


Masa siaran: 29 Ogos 2025