Substrat kristal tunggal logam aluminium digilap dan diproses dalam dimensi untuk pembuatan litar bersepadu

Berikut adalah ciri-ciri substrat kristal tunggal aluminium:
Prestasi pemprosesan yang sangat baik: substrat kristal tunggal aluminium boleh dipotong, digilap, diukir dan diproses lain untuk menghasilkan saiz dan struktur wafer yang diperlukan.
Kekonduksian terma yang baik: Aluminium mempunyai kekonduksian terma yang sangat baik, yang kondusif untuk pelesapan haba peranti pada substrat.
Rintangan kakisan: Substrat aluminium mempunyai rintangan kakisan kimia tertentu dan boleh memenuhi keperluan proses pengeluaran semikonduktor.
Kos rendah: Aluminium sebagai bahan logam biasa, bahan mentah dan kos pengeluaran agak rendah, yang kondusif untuk mengurangkan kos pembuatan wafer.
Aplikasi substrat hablur tunggal logam aluminium.
1. Peranti optoelektronik: Substrat aluminium mempunyai aplikasi penting dalam pembuatan peranti optoelektronik seperti LED, diod laser dan pengesan foto.
2. Semikonduktor sebatian: Selain penggunaan substrat silikon, substrat aluminium juga digunakan dalam pembuatan peranti semikonduktor sebatian seperti GaAs dan InP.
3. Perisai elektromagnet: Aluminium sebagai bahan perisai elektromagnet yang baik, substrat aluminium boleh digunakan untuk mengeluarkan penutup perisai elektromagnet, kotak perisai dan produk lain.
4. Pembungkusan elektronik: Substrat aluminium digunakan secara meluas dalam pembungkusan peranti semikonduktor, sebagai substrat atau rangka plumbum.
Kilang kami mempunyai peralatan pengeluaran yang canggih dan pasukan teknikal, kami boleh menyediakan substrat kristal tunggal Aluminium yang boleh disesuaikan mengikut keperluan khusus pelanggan dengan pelbagai spesifikasi, ketebalan, bentuk substrat Aluminium. Selamat datang pertanyaan!