Kilang bahagian seramik SiC perindustrian tersuai tahan haus dan suhu tinggi

Rintangan suhu seramik silikon karbida

Seramik silikon karbida (seramik SiC) ialah sejenis bahan seramik baharu dengan kekerasan tinggi, kekuatan tinggi dan rintangan haus yang tinggi. Komponen utamanya ialah silikon karbida, dan struktur kristalnya mempunyai kestabilan haba dan kimia yang sangat tinggi. Eksperimen menunjukkan bahawa seramik silikon karbida boleh mengekalkan prestasi yang stabil di bawah persekitaran suhu tinggi yang melampau, dan rintangan suhunya jauh lebih baik daripada bahan seramik tradisional.

Menurut penyelidikan, rintangan suhu seramik silikon karbida boleh mencapai lebih daripada 2000 darjah Celsius. Pada suhu yang begitu tinggi, seramik silikon karbida masih mengekalkan sifat mekanikal yang baik dan kestabilan struktur, yang menjadikannya mempunyai pelbagai prospek aplikasi dalam persekitaran suhu tinggi.

Prospek permohonan seramik silikon karbida

1. Aeroangkasa

Dalam industri aeroangkasa, persekitaran suhu tinggi tidak dapat dielakkan. Kestabilan suhu tinggi seramik silikon karbida menjadikannya pilihan bahan yang ideal untuk komponen suhu tinggi seperti enjin pesawat dan pendorong roket.

2. Tenaga dan industri kimia

Dalam bidang industri tenaga dan kimia, reaktor suhu tinggi dan penukar haba dan peralatan lain mempunyai keperluan yang tinggi untuk rintangan suhu bahan. Kestabilan suhu tinggi seramik silikon karbida menjadikannya bahan pilihan untuk peranti ini

3. Jentera perindustrian

Dalam bidang jentera perindustrian, kestabilan suhu tinggi seramik silikon karbida boleh meningkatkan rintangan haus dan rintangan kakisan peralatan mekanikal dan memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan.

Seramik silikon karbida mempunyai prospek aplikasi yang luas kerana kestabilan suhu tinggi yang sangat baik. Dengan pembangunan berterusan sains dan teknologi, adalah dipercayai bahawa bidang aplikasi seramik silikon karbida akan menjadi lebih luas, membawa lebih banyak kemudahan dan kemajuan kepada masyarakat manusia.