Rod dan Pin Lif Nilam Industri, Pin Nilam Al2O3 Kekerasan Tinggi untuk Pengendalian Wafer, Sistem Radar dan Pemprosesan Semikonduktor – Diameter 1.6mm hingga 2mm
Abstrak
Rod dan Pin Lift Sapphire Industri direka dengan ketepatan dan ketahanan untuk aplikasi permintaan tinggi seperti pengendalian wafer, sistem radar dan pemprosesan semikonduktor. Diperbuat daripada kristal tunggal Al2O3 (nilam), pin ini menawarkan kekerasan dan rintangan haba yang luar biasa. Tersedia dalam diameter antara 1.6mm hingga 2mm, rod angkat dan pin ini boleh disesuaikan untuk keperluan industri khusus. Ia memberikan rintangan calar yang sangat baik dan haus rendah, menjadikannya komponen penting untuk sistem berprestasi tinggi.
Ciri-ciri
●Kekerasan dan Ketahanan Tinggi:Dengan kekerasan Mohs 9, pin dan rod ini tahan calar, memastikan prestasi tahan lama dalam aplikasi haus tinggi.
●Saiz Boleh Disesuaikan:Tersedia dalam diameter dari 1.6mm hingga 2mm, dengan pilihan untuk dimensi tersuai untuk memenuhi keperluan aplikasi tertentu.
●Kerintangan Terma:Takat lebur nilam yang tinggi (2040°C) memastikan pin ini boleh menahan persekitaran suhu tinggi tanpa merosot.
●Sifat Optik Cemerlang:Kejelasan optik yang wujud dari Sapphire menjadikan pin angkat ini sesuai untuk digunakan dalam sistem optik dan peranti ketepatan.
●Geseran dan Haus Rendah:Permukaan nilam yang licin meminimumkan haus pada kedua-dua pin lif dan peralatan, mengurangkan kos penyelenggaraan.
Aplikasi
●Pengendalian Wafer:Digunakan dalam pemprosesan semikonduktor untuk manipulasi wafer yang halus.
●Sistem Radar:Pin berprestasi tinggi yang digunakan dalam sistem radar untuk ketahanan dan ketepatannya.
●Pemprosesan Semikonduktor:Sesuai untuk mengendalikan wafer dan komponen lain dalam proses pembuatan semikonduktor berteknologi tinggi.
●Sistem Perindustrian:Sesuai untuk pelbagai aplikasi perindustrian yang memerlukan ketahanan dan ketepatan yang tinggi.
Parameter Produk
| Ciri | Spesifikasi |
| bahan | Kristal Tunggal Al2O3 (Nilam) |
| Kekerasan | Mohs 9 |
| Julat Diameter | 1.6mm hingga 2mm |
| Kekonduksian Terma | 27 W·m^-1·K^-1 |
| Takat Lebur | 2040°C |
| Ketumpatan | 3.97g/cc |
| Aplikasi | Pengendalian Wafer, Sistem Radar, Pemprosesan Semikonduktor |
| Penyesuaian | Tersedia dalam Saiz Tersuai |
Soal Jawab (Soalan Lazim)
S1: Mengapa nilam merupakan bahan yang baik untuk pin angkat digunakan dalam pengendalian wafer?
A1: Sapphire sangat bagustahan calardan mempunyai atakat lebur yang tinggi, menjadikannya bahan yang sangat baik untuk operasi halus sepertipengendalian wafer, di mana ketepatan dan ketahanan adalah kunci.
S2: Apakah kelebihan menyesuaikan saiz pin angkat nilam?
A2: Saiz tersuai membolehkan pin angkat ini disesuaikan agar sesuai dengan aplikasi tertentu, memastikan prestasi optimum dalam pelbagai sistem, termasukpemprosesan semikonduktordansistem radar.
S3: Bolehkah pin angkat nilam digunakan dalam aplikasi suhu tinggi?
A3: Ya,nilammempunyai atakat lebur yang tinggidaripada2040°C, menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam persekitaran suhu tinggi.
Gambarajah Terperinci
