Rod dan Pin Angkat Nilam Perindustrian, Pin Nilam Al2O3 Kekerasan Tinggi untuk Pengendalian Wafer, Sistem Radar dan Pemprosesan Semikonduktor – Diameter 1.6mm hingga 2mm
Abstrak
Rod dan Pin Angkat Nilam Perindustrian direka bentuk dengan ketepatan dan ketahanan untuk aplikasi permintaan tinggi seperti pengendalian wafer, sistem radar dan pemprosesan semikonduktor. Diperbuat daripada Al2O3 (nila) kristal tunggal, pin ini menawarkan kekerasan dan rintangan haba yang luar biasa. Terdapat dalam diameter antara 1.6mm hingga 2mm, rod dan pin angkat ini boleh disesuaikan untuk keperluan perindustrian khusus. Ia memberikan rintangan calar yang sangat baik dan haus yang rendah, menjadikannya komponen penting untuk sistem berprestasi tinggi.
Ciri-ciri
●Kekerasan dan Ketahanan Tinggi:Dengan kekerasan Mohs 9, pin dan rod ini tahan calar, memastikan prestasi tahan lama dalam aplikasi haus tinggi.
●Saiz Boleh Disesuaikan:Tersedia dalam diameter dari 1.6mm hingga 2mm, dengan pilihan dimensi tersuai bagi memenuhi keperluan aplikasi tertentu.
●Rintangan Terma:Takat lebur Sapphire yang tinggi (2040°C) memastikan pin ini dapat menahan persekitaran suhu tinggi tanpa terdegradasi.
●Sifat Optik Cemerlang:Kejelasan optik yang wujud pada nilam menjadikan pin angkat ini sesuai untuk digunakan dalam sistem optik dan peranti ketepatan.
●Geseran dan Haus Rendah:Permukaan nilam yang licin meminimumkan haus pada pin angkat dan peralatan, sekali gus mengurangkan kos penyelenggaraan.
Aplikasi
●Pengendalian Wafer:Digunakan dalam pemprosesan semikonduktor untuk manipulasi wafer yang halus.
●Sistem Radar:Pin berprestasi tinggi yang digunakan dalam sistem radar kerana ketahanan dan ketepatannya.
●Pemprosesan Semikonduktor:Sesuai untuk mengendalikan wafer dan komponen lain dalam proses pembuatan semikonduktor berteknologi tinggi.
●Sistem Perindustrian:Sesuai untuk pelbagai aplikasi perindustrian yang memerlukan ketahanan dan ketepatan yang tinggi.
Parameter Produk
| Ciri | Spesifikasi |
| Bahan | Al2O3 Kristal Tunggal (Nilam) |
| Kekerasan | Mohs 9 |
| Julat Diameter | 1.6mm hingga 2mm |
| Kekonduksian Terma | 27 W·m^-1·K^-1 |
| Takat Lebur | 2040°C |
| Ketumpatan | 3.97g/cc |
| Aplikasi | Pengendalian Wafer, Sistem Radar, Pemprosesan Semikonduktor |
| Penyesuaian | Tersedia dalam Saiz Tersuai |
Soal Jawab (Soalan Lazim)
S1: Mengapakah nilam merupakan bahan yang baik untuk pin angkat yang digunakan dalam pengendalian wafer?
A1: Safir sangattahan calardan mempunyaitakat lebur yang tinggi, menjadikannya bahan yang sangat baik untuk operasi halus sepertipengendalian wafer, yang mana ketepatan dan ketahanan adalah kuncinya.
S2: Apakah kelebihan menyesuaikan saiz pin angkat nilam?
A2: Saiz tersuai membolehkan pin angkat ini disesuaikan agar sesuai dengan aplikasi tertentu, memastikan prestasi optimum dalam pelbagai sistem, termasukpemprosesan semikonduktordansistem radar.
S3: Bolehkah pin angkat nilam digunakan dalam aplikasi suhu tinggi?
A3: Ya,nilammempunyaitakat lebur yang tinggidaripada2040°C, menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam persekitaran suhu tinggi.
Gambarajah Terperinci
