SiC Jenis-N pada Substrat Komposit Si Dia6 inci
等级Gred | U 级 | P级 | D级 |
Gred BPD Rendah | Gred Pengeluaran | Gred Dummy | |
直径Diameter | 150.0 mm±0.25mm | ||
厚度Ketebalan | 500 μm±25μm | ||
晶片方向Orientasi Wafer | Paksi luar : 4.0°ke arah < 11-20 > ±0.5°untuk 4H-N Pada paksi : <0001>±0.5°untuk 4H-SI | ||
主定位边方向Flat Utama | {10-10}±5.0° | ||
主定位边长度Panjang Rata Utama | 47.5 mm±2.5 mm | ||
边缘Pengecualian tepi | 3 mm | ||
总厚度变化/弯曲度/翘曲度 TTV/Bow /Warp | ≤15μm /≤40μm /≤60μm | ||
微管密度和基面位错MPD&BPD | MPD≤1 cm-2 | MPD≤5 cm-2 | MPD≤15 cm-2 |
BPD≤1000cm-2 | |||
电阻率Kerintangan | ≥1E5 Ω·cm | ||
表面粗糙度Kekasaran | Poland Ra≤1 nm | ||
CMP Ra≤0.5 nm | |||
裂纹(强光灯观测) # | tiada | Panjang kumulatif ≤10mm, panjang tunggal≤2mm | |
Retak oleh cahaya keamatan tinggi | |||
六方空洞(强光灯观测)* | Luas kumulatif ≤1% | Luas kumulatif ≤5% | |
Plat Hex oleh cahaya keamatan tinggi | |||
多型(强光灯观测)* | tiada | Luas terkumpul≤5% | |
Politaip Kawasan dengan cahaya keamatan tinggi | |||
划痕(强光灯观测)*& | 3 calar hingga 1×diameter wafer | 5 calar hingga 1×diameter wafer | |
Calar oleh cahaya keamatan tinggi | panjang terkumpul | panjang terkumpul | |
崩边# Cip tepi | tiada | 5 dibenarkan, ≤1 mm setiap satu | |
表面污染物(强光灯观测) | tiada | ||
Pencemaran oleh cahaya intensiti tinggi |