Struktur kubik hablur tunggal substrat/wafer Ni a=3.25A ketumpatan 8.91

Orientasi kristalografi substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memainkan peranan penting dalam menentukan sifat permukaan dan interaksi bahan. Orientasi ini menyediakan keupayaan pemadanan kekisi dengan bahan filem nipis yang berbeza, menyokong pertumbuhan lapisan epitaksi yang tepat. Di samping itu, rintangan kakisan nikel menjadikannya tahan lama dalam persekitaran yang keras, yang bermanfaat untuk aplikasi dalam aeroangkasa, marin dan pemprosesan kimia. Kekuatan mekanikalnya seterusnya memastikan bahawa substrat Ni dapat menahan ketegasan pemprosesan fizikal dan eksperimen tanpa terdegradasi, menyediakan asas yang stabil untuk teknologi pemendapan dan salutan filem nipis. Gabungan sifat terma, elektrik dan mekanikal ini menjadikan substrat Ni penting untuk penyelidikan lanjutan dalam nanoteknologi, sains permukaan dan elektronik.
Ciri-ciri nikel boleh merangkumi kekerasan dan kekuatan yang tinggi, yang boleh sekeras 48-55 HRC. Rintangan kakisan yang baik, terutamanya terhadap asid dan alkali serta media kimia lain mempunyai rintangan kakisan yang sangat baik. Kekonduksian elektrik dan kemagnetan yang baik, merupakan salah satu komponen utama dalam pembuatan aloi elektromagnet.
Nikel boleh digunakan dalam pelbagai bidang, seperti sebagai bahan konduktif untuk komponen elektronik dan sebagai bahan sentuhan. Digunakan untuk mengeluarkan bateri, motor, transformer dan peralatan elektromagnet lain. Digunakan dalam penyambung elektronik, talian penghantaran dan sistem elektrik lain. Sebagai bahan struktur untuk peralatan kimia, bekas, saluran paip, dan sebagainya. Digunakan untuk mengeluarkan peralatan tindak balas kimia dengan keperluan rintangan kakisan yang tinggi. Ia digunakan dalam bidang farmaseutikal, petrokimia dan lain-lain di mana rintangan kakisan bahan sangat diperlukan.

Substrat nikel (Ni), disebabkan oleh sifat fizikal, kimia dan kristalografinya yang serba boleh, menemui pelbagai aplikasi merentasi pelbagai bidang saintifik dan perindustrian. Berikut adalah beberapa aplikasi utama substrat Ni: Substrat nikel digunakan secara meluas dalam pemendapan filem nipis dan lapisan epitaksi. Orientasi kristalografi khusus substrat Ni, seperti <100>, <110> dan <111>, menyediakan pemadanan kekisi dengan pelbagai bahan, membolehkan pertumbuhan filem nipis yang tepat dan terkawal. Substrat Ni sering digunakan dalam pembangunan peranti storan magnetik, sensor dan peranti spintronik, di mana mengawal putaran elektron adalah kunci untuk meningkatkan prestasi peranti. Nikel ialah pemangkin yang sangat baik untuk tindak balas evolusi hidrogen (HER) dan tindak balas evolusi oksigen (OER), yang penting dalam teknologi pemisahan air dan sel bahan api. Substrat Ni sering digunakan sebagai bahan sokongan untuk salutan pemangkin dalam aplikasi ini, menyumbang kepada proses penukaran tenaga yang cekap.
Kami boleh menyesuaikan pelbagai spesifikasi, ketebalan dan bentuk substrat kristal tunggal Ni mengikut keperluan khusus pelanggan.