Ni Substrat/wafer struktur kubik kristal tunggal a=3.25A ketumpatan 8.91

Penerangan ringkas:

Substrat nikel (Ni), terutamanya dalam bentuk wafer nikel, digunakan secara meluas dalam sains bahan dan penyelidikan elektronik kerana sifat serba bolehnya. Tersedia dalam dimensi 5x5x0.5 mm, 10x10x1 mm dan 20x20x0.5 mm, substrat ini berorientasikan sepanjang satah kristalografi utama seperti <100>, <110> dan <111>. Orientasi ini penting dalam mempengaruhi pemendapan filem nipis, pertumbuhan epitaxial, dan kajian permukaan, kerana ia membolehkan padanan kekisi yang tepat dengan pelbagai bahan. Substrat nikel biasanya digunakan dalam aplikasi yang melibatkan pemangkinan, bahan magnetik, dan superkonduktor kerana kekonduksian haba dan elektrik yang sangat baik. Kekuatan mekanikal yang tinggi dan ketahanan terhadap kakisan juga menjadikannya sesuai untuk teknik salutan lanjutan, pembangunan sensor dan nanoelektronik. Gabungan ketepatan kristalografi, fleksibiliti dimensi dan bahan nikel berkualiti tinggi memastikan substrat ini memberikan prestasi optimum dalam aplikasi eksperimen dan industri. Dengan keupayaan mereka untuk menyokong pelbagai jenis filem dan salutan nipis, substrat Ni adalah penting dalam pembangunan bahan dan peranti baharu merentasi pelbagai bidang berteknologi tinggi.

Hantar e-mel kepada kami

Butiran Produk

Tag Produk

Spesifikasi

Orientasi kristalografi substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memainkan peranan penting dalam menentukan permukaan bahan dan sifat interaksi. Orientasi ini menyediakan keupayaan padanan kekisi dengan bahan filem nipis yang berbeza, menyokong pertumbuhan tepat lapisan epitaxial. Selain itu, rintangan kakisan nikel menjadikannya tahan lama dalam persekitaran yang keras, yang bermanfaat untuk aplikasi dalam aeroangkasa, marin dan pemprosesan kimia. Kekuatan mekanikalnya seterusnya memastikan substrat Ni boleh menahan ketegaran pemprosesan fizikal dan eksperimen tanpa merendahkan, menyediakan asas yang stabil untuk teknologi pemendapan dan salutan filem nipis. Gabungan sifat terma, elektrik dan mekanikal ini menjadikan substrat Ni penting untuk penyelidikan lanjutan dalam nanoteknologi, sains permukaan dan elektronik.
Ciri-ciri nikel boleh termasuk kekerasan dan kekuatan tinggi, yang boleh sekeras 48-55 HRC. Rintangan kakisan yang baik, terutamanya kepada asid dan alkali dan media kimia lain mempunyai rintangan kakisan yang sangat baik. Kekonduksian elektrik dan kemagnetan yang baik, adalah salah satu komponen utama pembuatan aloi elektromagnet.
Nikel boleh digunakan dalam banyak bidang, seperti sebagai bahan konduktif untuk komponen elektronik dan sebagai bahan sentuhan. Digunakan untuk mengeluarkan bateri, motor, transformer dan peralatan elektromagnet lain. Digunakan dalam penyambung elektronik, talian penghantaran dan sistem elektrik lain. Sebagai bahan struktur untuk peralatan kimia, bekas, saluran paip, dll. Digunakan untuk mengeluarkan peralatan tindak balas kimia dengan keperluan rintangan kakisan yang tinggi. Ia digunakan dalam bidang farmaseutikal, petrokimia dan lain-lain di mana rintangan kakisan bahan sangat diperlukan.

Substrat nikel (Ni), kerana sifat fizikal, kimia dan kristalografinya yang serba boleh, menemui pelbagai aplikasi merentasi pelbagai bidang saintifik dan perindustrian. Di bawah ialah beberapa aplikasi utama substrat Ni: Substrat nikel digunakan secara meluas dalam pemendapan filem nipis dan lapisan epitaxial. Orientasi kristalografi khusus substrat Ni, seperti <100>, <110> dan <111>, memberikan padanan kekisi dengan pelbagai bahan, membolehkan pertumbuhan filem nipis yang tepat dan terkawal. Substrat Ni sering digunakan dalam pembangunan peranti storan magnetik, penderia dan peranti spintronik, di mana mengawal putaran elektron adalah kunci untuk meningkatkan prestasi peranti. Nikel ialah pemangkin yang sangat baik untuk tindak balas evolusi hidrogen (HER) dan tindak balas evolusi oksigen (OER), yang penting dalam pemisahan air dan teknologi sel bahan api. Substrat Ni sering digunakan sebagai bahan sokongan untuk salutan pemangkin dalam aplikasi ini, menyumbang kepada proses penukaran tenaga yang cekap.
Kami boleh menyesuaikan pelbagai spesifikasi, ketebalan dan bentuk substrat kristal Ni Tunggal mengikut keperluan khusus pelanggan.

Gambarajah Terperinci