Wafer Kaca Kuarza JGS1 JGS2 BF33 Wafer 8 inci 12 inci 725 ± 25 um Atau Disesuaikan

Wafer Kaca Kuarza JGS1 JGS2 BF33 Wafer 8 inci 12 inci 725 ± 25 um Atau Imej Pilihan Tersuai

Penerangan ringkas:

Produk ini menawarkan wafer kaca kuarza berkualiti tinggi dalam tiga bahan berbeza: JGS1, JGS2 dan BF33. Tersedia dalam saiz standard 8 inci dan 12 inci dengan ketebalan 725 ± 25 μm, wafer ini juga boleh disesuaikan mengikut keperluan khusus. Wafer kuarza mempunyai kestabilan terma yang sangat baik, rintangan kimia, dan ketransmisian yang tinggi, menjadikannya sesuai untuk pelbagai aplikasi seperti pembuatan semikonduktor, optik dan fotonik. Dengan kawalan dimensi yang tepat dan kualiti permukaan yang luar biasa, wafer ini memenuhi piawaian industri moden yang menuntut, memberikan prestasi yang boleh dipercayai dan jangka hayat dalam kedua-dua persekitaran penyelidikan dan pengeluaran. Pilihan penyesuaian memastikan fleksibiliti untuk memenuhi pelbagai keperluan projek.

Hantar e-mel kepada kami

Butiran Produk

Tag Produk

Spesifikasi

Spesifikasi	4"	6"	8"	10"	12”
Diameter	100mm	150mm	200mm	250mm	300mm
Ketebalan	0.10mm	0.30mm	0.40mm	0.50mm	0.50mm
Flat Utama	32.5mm	47.5mm / 57.5mm / Takik	Takik	Takik	Takik
LTV (5mmx5mm)	< 0.5um	< 0.5um	< 0.5um	< 0.5um	< 0.5um
TTV	< 2um	< 3um	<3um	<10um	<10um
Tunduk	±20um	±30um	±40um	±40um	±40um
meledingkan	≤ 30um	≤ 40um	≤ 70um	≤ 80um	≤ 80um
Pembundaran Tepi	Mematuhi Standard SEMI M1.2/rujuk IEC62276
Jenis Permukaan	Satu Sebelah Digilap / Dua Sebelah Digilap
Ra sisi digilap	Ra≤1nm
Kriteria Bahagian Belakang	Ra 0.2-0.7um atau Disesuaikan

Wafer Kaca Kuarza JGS1 JGS2 BF33 Jadual parameter Wafer

Permohonan

Wafer kaca kuarza yang diperbuat daripada JGS1, JGS2, dan BF33 digunakan secara meluas dalam pelbagai industri berketepatan tinggi. Wafer ini sesuai untuk pembuatan semikonduktor, termasuk substrat photomask dan optik aras wafer. Ia juga sesuai untuk komponen optik, laser dan penderia dalam industri seperti telekomunikasi, aeroangkasa dan peranti perubatan. Kestabilan terma yang tinggi dan rintangan kepada kejutan haba menjadikannya sempurna untuk persekitaran suhu yang melampau, manakala penghantaran luar biasa mereka adalah penting untuk optik ultraungu (UV) dan inframerah (IR).

Hartanah

Jenis Bahan:

JGS1: Transmisi UV tinggi, sangat baik untuk aplikasi cahaya ultraviolet.

JGS2: Transmisi seimbang merentasi julat UV, boleh dilihat dan inframerah, sesuai untuk kegunaan optik umum.

BF33: Kaca borosilikat dengan rintangan kimia yang tinggi dan ketahanan haba. Pilihan Saiz:

Tersedia dalam saiz standard wafer 8 inci dan 12 inci.

Saiz tersuai boleh dihasilkan berdasarkan keperluan khusus. Ketebalan:

Ketebalan standard ialah 725 ± 25 μm.

Ketebalan yang boleh disesuaikan tersedia untuk memenuhi keperluan industri yang berbeza.

Sifat Terma:

Kestabilan haba yang sangat baik, sesuai untuk digunakan dalam persekitaran suhu tinggi.

Rintangan tinggi terhadap kejutan haba.

Rintangan kimia:

Rintangan kuat terhadap kakisan daripada asid, alkali, dan kebanyakan bahan kimia, terutamanya dalam BF33.

Sifat Optik:

Wafer JGS1 dan JGS2 menawarkan ketransmisian optik yang tinggi dalam julat ultraungu (UV), boleh dilihat dan inframerah (IR).

Ideal untuk komponen optik ketepatan, fotonik dan aplikasi laser.

Kualiti Permukaan:

Kerataan dan kelicinan permukaan yang tinggi, memastikan ketepatan dalam pembuatan peranti semikonduktor dan optik.

Sifat ini menjadikan wafer JGS1, JGS2 dan BF33 serba boleh dan boleh dipercayai untuk aplikasi berprestasi tinggi merentas industri seperti optik, elektronik dan semikonduktor.

Keseluruhannya

Wafer kaca kuarza yang diperbuat daripada JGS1, JGS2 dan BF33 menawarkan prestasi luar biasa dalam pelbagai aplikasi yang menuntut. Tersedia dalam saiz standard 8-inci dan 12-inci dengan ketebalan 725 ± 25 μm, wafer ini juga boleh disesuaikan untuk memenuhi keperluan khusus. JGS1 dan JGS2 memberikan ketransmisian optik yang tinggi dalam julat UV, boleh dilihat dan IR, manakala BF33 menawarkan rintangan kimia dan kestabilan haba yang sangat baik. Dengan kerataan dan kelicinan permukaan yang tinggi, wafer ini sesuai untuk industri ketepatan seperti semikonduktor, optik dan fotonik, memastikan kebolehpercayaan dan ketahanan dalam persekitaran yang melampau dan aplikasi kritikal.